在cdr抠图过程中,位图遮罩与轮廓描摹功能在处理纯色背景时究竟存在怎样的差异呢?
原理差异
- 位图遮罩:位图遮罩是通过创建一个遮罩对象,将其覆盖在位图上,遮罩对象中不透明的部分会显示位图内容,透明部分则隐藏位图内容。在处理纯色背景时,通常是利用颜色的对比,将纯色背景部分设置为透明,从而实现抠图。
- 轮廓描摹:轮廓描摹是分析位图的颜色和形状信息,自动生成矢量图形。对于纯色背景,它会识别主体与背景的边界,将主体的轮廓转换为矢量路径。
操作难度
- 位图遮罩:操作相对复杂,需要手动调整遮罩的范围和透明度。如果纯色背景与主体颜色有相近部分,精准区分会比较困难,可能需要多次尝试和调整。
- 轮廓描摹:操作较为简单,只需选择合适的描摹模式,软件会自动处理。但对于一些细节较多或边缘不规则的主体,可能需要后期对生成的矢量图形进行微调。
效果差异
功能 | 细节保留 | 边缘处理 |
---|---|---|
位图遮罩 | 能较好地保留位图的细节,但在遮罩边缘可能会出现锯齿或不自然的过渡。 | 边缘处理依赖于遮罩的绘制精度,可能不够平滑。 |
轮廓描摹 | 生成的矢量图形细节可能会有所损失,尤其是一些细微的纹理。 | 边缘通常比较平滑,能呈现出清晰的边界。 |
应用场景
- 位图遮罩:适用于需要保留位图细节,且对边缘处理要求不是特别高的情况,例如一些艺术风格的图片抠图。
- 轮廓描摹:更适合用于需要将位图转换为矢量图形,以便进行后续编辑和印刷的场景,如制作标志、插画等。